H.Salman, S., A.Shehab, A. (2011). Changing in Sensitivity of ZnO thin Films of H2 gas at Different Annealing Temperatures. , 24(2), 101-108.
S. H.Salman; A. A.Shehab. "Changing in Sensitivity of ZnO thin Films of H2 gas at Different Annealing Temperatures". , 24, 2, 2011, 101-108.
H.Salman, S., A.Shehab, A. (2011). 'Changing in Sensitivity of ZnO thin Films of H2 gas at Different Annealing Temperatures', , 24(2), pp. 101-108.
H.Salman, S., A.Shehab, A. Changing in Sensitivity of ZnO thin Films of H2 gas at Different Annealing Temperatures. , 2011; 24(2): 101-108.

Changing in Sensitivity of ZnO thin Films of H2 gas at Different Annealing Temperatures

Ibn Al-Haitham Journal For Pure And Applied Science
Article 1, Volume 24, Issue 2, 2011, Pages 101-108
Authors
S. H.Salman; A. A.Shehab
Abstract
تم دراسة تغير حساسية أغشية ZnO بتغيير درجة حرارة التلدين التي تتراوح(473-773)K والمحضرة بطريقة الترسيب الكيميائي الحراري عند درجة حرارة الأساس (673)K والمرسبة على قواعد زجاجية، اذ أوضحت النتائج أن زيادة درجة حرارة التلدين أدت إلى نقصان الحساسية. حيث كانت حساسية غشاء ZnOلغازH2 في درجة حرارة الغرفة تساوي (88.9%) وعند درجة حرارة التلدين (473)K تساوي84.2%)) إما عند زيادة درجة حرارة التلدين إلى (773)K أصبحت (69.5%).
Statistics
Article View: 62
PDF Download: 20


Journal Management System. Powered by iJournalPro.com